资讯编号：2024T-0121

　　俄国圣彼得堡彼得大帝理工大学的研究人员制造了一个进口替代技术光刻复合体，可以生产用于微电子设备的纳米结构。这一技术进展将有助于俄罗斯在微电子领域获得技术主权。

　　该复合体由两部分组成。第一个是无掩模纳米蚀刻的工业模型，第二个是硅等离子体化学蚀刻的工业模型。此外，研究人员还开发了独立的软件，目前正在通过反馈系统对软件进行补充，以减少操作过程中的人为因素。使用这种设施创建的膜在可靠性和灵敏度方面均优于液体或激光蚀刻生产的膜。且该装置的生产成本为500万卢布，仅为外国同类设备成本的二分之一。

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