资讯编号：2025T-0093

　　9月16日，日本光刻胶巨头JSR宣布，已与美国半导体设备巨头泛林集团(Lam Research)就下一代半导体制造达成非排他性交叉许可协议及合作共识。双方将共同开发极紫外光(EUV)光刻胶、金属氧化物光刻胶(MOR)以及薄膜沉积材料等先进材料。通过此次合作，JSR拥有的尖端光刻材料技术与泛林集团的刻蚀及干法光刻胶沉积技术将形成互补优势，共同推动下一代半导体材料的技术创新。

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