资讯编号：2026T-0270

美国耶鲁大学研究团队发现一种可规模化生产高质量超薄半导体的新方案，为制造高性能电子和量子器件奠定了材料基础。团队采用化学气相沉积（CVD）技术制备超薄单层半导体。传统工艺将液态前驱体溶于碱性溶液时，前驱体组分易发生不可控汽化，同时副产物会从晶格中拖拽出原子，造成所制得半导体缺陷密度高、厚度不均，质量较低。对此，研究人员改用酸性溶液对化学原料进行预处理，成功将原子固定在衬底表面，从而获得了均匀且缺陷可控的超薄半导体。研究成果4月15日发表于《美国化学会志》（Journal of the American Chemical Society）。

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